Nghiên cứu khả năng xử lý axit piric trong nước bằng phương pháp quang oxi hóa điện hóa gián tiếp sử dụng điện cực WO3/Cu

Các tác giả

  • Dinh Trong Nghia Viện Vật liệu, Sinh học và Môi trường/Viện Khoa học và Công nghệ quân sự
  • Le Thi Thuy Nguyen Viện Vật liệu, Sinh học và Môi trường/Viện Khoa học và Công nghệ quân sự
  • Ngo Tien Quyet Đại học Khoa học Tự nhiên Hà Nội image/svg+xml
  • Vu Thi Vui Viện Vật liệu, Sinh học và Môi trường/Viện Khoa học và Công nghệ quân sự

Từ khóa:

Tóm tắt

Bài báo giới thiệu kết quả nghiên cứu chế tạo, đánh giá một số tính chất, hình thái học, cấu tạo tinh thể của lớp phủ WO3 trên nền Cu. Đồng thời, giới thiệu kết quả đánh giá bước đầu về khả năng xử lý acid picric trong nước của phương pháp oxi hóa điện hóa gián tiếp sử dụng điện cực WO3/Cu và tác nhân HOCl. Kết quả nghiên cứu cho thấy lớp phủ WO3 trên nền Cu có cấu trúc tinh thể lục giác, khối lượng riêng 6,422 g/cm³, cường độ hấp phụ  0,8 a.u (λ = 420 nm), dải cấm năng lượng khoảng 2,8 eV. Với điện thế áp dụng cho điện cực WO3/Cu là +0,8 V (vs. Ag/AgCl), phương pháp quang oxi hóa điện hóa gián tiếp sử dụng điện cực WO3/Cu và tác nhân HOCl cho hiệu suất xử lý TNP nồng độ 80 mg/L đạt 95% sau 105 phút ở nhiệt độ phòng.

Lượt tải

Chưa có dữ liệu tải xuống.

Đã Xuất bản

2025-05-24

Số

Chuyên mục

Hóa học, Sinh học & Môi trường