Chế tạo vi mạch: Công nghệ in khắc nano sẽ soán ngôi công nghệ phơi sáng dùng tia cực tử ngoại?

Các tác giả

  • Đặng Lương Mô

Tóm tắt

Hiện nay, trong chế tạo vi mạch, công nghệ phơi sáng dùng tia cực tử ngoại (EUV) trong quy trình quang khắc (Lithography) đang chiếm địa vị “độc tôn”. Công ty ASML (Hà Lan) hiện là nhà cung cấp hàng đầu thế giới về thiết bị quang khắc cho ngành công nghiệp bán dẫn...

Lượt tải

Chưa có dữ liệu tải xuống.

Tiểu sử tác giả

  • Đặng Lương Mô

    Giáo sư danh dự Đại học HOSEI, Tokyo, Nhật Bản
    Cố vấn Đại học Quốc gia TP Hồ Chí Minh

Đã Xuất bản

2024-04-09

Số

Chuyên mục

KHOA HỌC VÀ CÔNG NGHỆ NƯỚC NGOÀI